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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의
[1] | 9658 |
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matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다.
[1] | 9425 |
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75 |
Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다.
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74 |
RF Power reflect 관련 문의 드립니다.
[4] | 7694 |
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73 |
정전척 isolation 문의 입니다.
[1] | 7480 |
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72 |
ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다.
[1] | 6898 |
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71 |
RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다
[2] | 6869 |
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플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의..
[1] | 6381 |
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Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다.
[2] | 6129 |
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68 |
RF calibration에 대해 질문드립니다.
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안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다.
[3] | 5668 |
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ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다.
[1] | 5296 |
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65 |
매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~
[1] | 4883 |
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64 |
ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
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Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문
[3] | 3504 |
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62 |
Vpp, Vdc 측정관련 문의
[1] | 3416 |
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61 |
ESC Cooling gas 관련
[1] | 3376 |
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60 |
플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요?
[1] | 3227 |
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dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요?
[1] | 3091 |
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58 |
matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다.
[3] | 2920 |
