Deposition Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [Depo radical 형성 및 sputtering]

2017.04.24 18:26

김성진 조회 수:8791

 

안녕하세요 PLASMA 에 관심이 많은 초보직장인 ? 입니다.

 

짧은 생각이지만 Plasma Source 로 작용하는 Ar Gas 량이 많아지면 Depo Rate 이 높아진다고 생각됩니다.

그러나 일부 실험에서 Ar Gas 량의 증가가 Depo Rate 하향을 경험하였습니다.

 

이런것을 어떻게 설명할 수 있는지 많은 분들의 도움 부탁드리겠습니다.

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