Remote Plasma ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요?
2012.02.25 11:04
ICP dry etch 장비에 대해 이제막 공부를 시작하고 있는데요..
RF Power로 부터 가해지는 전자기파가 도체 내를 통과할 수 있는 깊이가 skin depth라고 알고 있는데
그렇다면 skin depth가 클수록 전자기파가 플라즈마에 영향을 주어 플라즈마 밀도도 높아져서
etch rate 측면에서 볼 때 좋아진다고 생각이 되는데... 이런 메카니즘으로 이해하는것이 맞는 건지요..?
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [221] | 75435 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 19170 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56480 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 67566 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 89376 |
| 268 | 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] | 6425 |
| 267 | 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] | 6304 |
| 266 | RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] | 8794 |
| 265 | Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] | 8779 |
| 264 | 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] | 6383 |
| 263 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54024 |
| 262 | 수중플라즈마에 대해 [1] | 8619 |
| 261 | [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc) + Vp (plasma potential) 관련 질문입니다. [1] | 12524 |
| 260 | 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] | 8053 |
| 259 | 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] | 9637 |
| 258 | 고온 플라즈마 관련 | 8064 |
| 257 | 안녕하세요 교수님. [1] | 8863 |
| 256 | Lecture를 들을 수 없나요? [1] | 8539 |
| 255 | 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [1] | 12916 |
| 254 | MFP에 대해서.. [1] | 7767 |
| 253 | 안녕하세요, 질문드립니다. [2] | 6544 |
| 252 | 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] | 7652 |
| 251 | 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [1] | 10158 |
| 250 | 플라즈마 발생 억제 문의 [1] | 8059 |
| » | ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [1] | 24092 |