Sputtering RF Sputtering Target Issue
2022.10.28 21:14
안녕하세요 교수님. 이번에 새로이 RF 스퍼터를 사용하게 된 학생입니다.
첨부한 이미지와 같이 현재 metal oxide 타겟을 이용하여 증착 후 타겟에 검은색 ring 모양의 contamination이 생기는 이슈가 있습니다.
서칭 결과 Magnetic feild로 인한 redeopsition으로 추청되는데 해당 현상이 맞는 것인 지와 현상을 해결하기 위한 방법(e.g. RF power 감소)을 여쭙고자 합니다.
아직 스퍼터를 사용한 지 얼마 되지 않아 많이 미숙하여 자체적인 판단이 어려워 도움을 요청드리는 바입니다.
날이 많이 추워졌는데 건강 조심하시고 좋은 하루 되시길 바랍니다!
댓글 2
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76539 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91695 |
683 | Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] | 951 |
» | RF Sputtering Target Issue [2] | 570 |
681 | OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] | 592 |
680 | PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] | 1783 |
679 | plasma striation 관련 문의 [1] | 461 |
678 | Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. | 537 |
677 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 617 |
676 | Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] | 535 |
675 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1122 |
674 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1118 |
673 | Plasma Arching [1] | 1024 |
672 | Polymer Temp Etch [1] | 635 |
671 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 971 |
670 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 455 |
669 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1383 |
668 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1118 |
667 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 437 |
666 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 808 |
665 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 862 |
664 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 799 |