|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[233]
| 75736 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 19419 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 56648 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 67966 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 90148 |
|
317 |
모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의
| 5933 |
|
316 |
플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다.
[2] | 2356 |
|
315 |
HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다.
[1] | 3625 |
|
314 |
Ar plasma power/time
[1] | 1374 |
|
313 |
RPSC 관련 질문입니다.
[2] | 3782 |
|
312 |
안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다.
[1] | 16987 |
|
311 |
플라즈마 내에서의 현상
[1] | 1352 |
|
310 |
RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다
[2] | 6863 |
|
309 |
플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!?
[1] | 1821 |
|
308 |
N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다.
[1] | 10823 |
|
307 |
RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성
[1] | 3838 |
|
306 |
PPV(플라즈마 용융 유리화)에 관해 질문드립니다.
[1] | 815 |
|
305 |
3 stub 정합에 대해 궁금합니다.
[1] | 1832 |
|
304 |
Plasma 에칭 후 정전기 처리
[3] | 2965 |
|
303 |
Dry Etching Uniformity 개선 방법
[2] | 4087 |
|
302 |
micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다.
[1] | 1148 |
|
301 |
ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화
[1] | 1730 |
|
300 |
다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련
[1] | 1631 |
|
299 |
DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문
[2] | 3634 |
|
298 |
M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다.
[1] | 3054 |
