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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[220]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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245 |
Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요?
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244 |
Ar fraction에 따른 Plasma 특성 질문입니다.
[1] | 15723 |
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243 |
remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다.
[1] | 21124 |
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242 |
cross section 질문
[1] | 19526 |
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241 |
[Sputter Forward,Reflect Power]
[1] | 28885 |
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240 |
RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다.
[1] | 17457 |
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239 |
ICP 플라즈마 매칭 문의
[2] | 21096 |
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238 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의
[1] | 24629 |
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237 |
[질문] Plasma density 측정 방법
[1] | 22574 |
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236 |
[질문] 석영 parts로인한 특성 이상
[1] | 19771 |
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235 |
상압 플라즈마 방전에 관한 문의
[1] | 20236 |
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234 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
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233 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요.
[3] | 23603 |
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232 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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230 |
대기압 플라즈마
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반도체 관련 질문입니다.
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