|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[313]
| 79323 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 21287 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 58085 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 69644 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 94472 |
|
784 |
CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화]
[1] | 229 |
|
783 |
Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해]
[1] | 238 |
|
782 |
CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching]
[1] | 239 |
|
781 |
HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [국부 방전과 chucking]
[1] | 243 |
|
780 |
ICP dry etch 시 공정 문의 사항.
[1] | 244 |
|
779 |
ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해]
[1] | 249 |
|
778 |
Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화]
[1] | 249 |
|
777 |
AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석]
[1] | 250 |
|
776 |
FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석
| 264 |
|
775 |
Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다.
| 265 |
|
774 |
Microwave & RF Plasma [플라즈마 주파수와 rate constant]
[1] | 266 |
|
773 |
ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias]
[1] | 267 |
|
772 |
챔버의 Plasma density 확인방법 문의드립니다. [플라즈마 모니터링, OES, LP]
[1] | 267 |
|
771 |
플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [대기압 환경 플라즈마와 라디컬 분포]
[1] | 270 |
|
770 |
ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [플라즈마 생성 공간과 플라즈마 확산]
[1] | 271 |
|
769 |
구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [초고밀도 플라즈마]
[1]  | 272 |
|
768 |
Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [RF generator]
[2] | 284 |
|
767 |
ICP/CCP 플라즈마 식각 공정 개발 [Plasma sheath 및 Plasma generation]
[1] | 287 |
|
766 |
Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막]
[1] | 292 |
|
765 |
대기압 플라즈마 문의드립니다 [플라즈마 전원 이해]
[1] | 313 |
