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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[266]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20152 |
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57152 |
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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727 |
Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의
[1] | 441 |
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726 |
chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의
[1] | 354 |
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725 |
반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할.
[1] | 673 |
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724 |
Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요?
[1] | 574 |
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723 |
애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다.
[1] | 384 |
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722 |
화장품 원료의 플라즈마 처리 문의
[1]  | 184 |
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721 |
LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다.
[1] | 146 |
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720 |
플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거
[1] | 389 |
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719 |
Compressive한 Wafer에 대한 질문
[1] | 224 |
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718 |
[재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스
[1] | 668 |
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717 |
ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다
[1] | 770 |
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716 |
Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다.
[1] | 1357 |
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715 |
메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘
[1] | 272 |
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714 |
안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다.
[1] | 428 |
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713 |
RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다.
[1] | 353 |
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712 |
corona model에 대한 질문입니다.
[1] | 169 |
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711 |
플라즈마 제균 탈취 가능 여부
[1] | 204 |
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710 |
plasma 공정 중 색변화
[1] | 597 |
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709 |
ISD OES파형 관련하여 질문드립니다.
[1] | 433 |
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708 |
PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다.
[1] | 395 |
