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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[218]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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668 |
반도체 관련 플라즈마 실험
[1] | 745 |
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667 |
스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항
[1] | 365 |
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666 |
방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다.
[1] | 779 |
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665 |
Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다
[1] | 726 |
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664 |
RF 파워서플라이 매칭 문제
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663 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.
[1]  | 3104 |
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662 |
RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유
[1] | 1034 |
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661 |
플라즈마 진단 공부중 질문
[1] | 539 |
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660 |
플라즈마 샘플 위치 헷갈림
[1] | 542 |
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659 |
N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점
[1] | 1153 |
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658 |
플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법
[1] | 392 |
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657 |
etch defect 관련 질문드립니다
[1] | 834 |
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656 |
Co-relation between RF Forward power and Vpp
[1] | 532 |
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655 |
RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다.
[1] | 892 |
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654 |
연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준
[1] | 497 |
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653 |
RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소
[1] | 888 |
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652 |
Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다.
[1] | 1252 |
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651 |
플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor
[1] | 747 |
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650 |
doping type에 따른 ER 차이
[1] | 1887 |
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649 |
ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다.
[1] | 690 |
