Others N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma]

2022.05.12 00:29

윤태화 조회 수:1716

안녕하세요. 반도체회사에서  PECVD 장비를 하고있는 윤태화입니다.

 

GAS 종류에 따른 Plamsa 진행시 차이점이 있는지 궁금합니다.

 

1. N2 Gas 로 Plasma 진행 시 장단점

2. N2O Gas 로 Plasma 진행 시 장단점

3. N2 / N2O  두 Gas의 Plasma 차이점 

4. N2 및 N2O GAS 사용으로 Plasma 4~5분 노출 시 챔버 내부 변색 가능성? 한두달 뒤 변색이 될 가능성..

 

위 4개 질문드립니다. 

 

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] 82699
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21975
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58755
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70388
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96317
824 C2H2 플라즈마코팅시 가스 원인과 대책 73
823 플라즈마 식각 커스핑 식각량 99
822 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [표면파의 전파] [1] 120
821 liquid plasma 공부 방향에 대해서 알고싶습니다. [1] 127
820 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [유전체 상태 모니터링] [1] 129
819 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 131
818 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [열전달 방정식 이해] [1] 132
817 Druyvesteyn Distribution 138
816 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [RF 전원과 매칭] [1] 153
815 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 153
814 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 158
813 ESC 사용 공정에서 Dummy Wafer Chuck Force 에 대해서 궁급합니다 [1] 159
812 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 160
811 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 162
810 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [DBD 방전과 DC breakdown] [1] 181
809 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 189
808 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 196
807 플라즈마 설비에 대한 질문 197
806 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 200
805 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 202
쓰기
태그

Boards

XE Login