질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:90278 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75761
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19447
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56668
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68016
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90278
40 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47498
39 Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) 35536
38 matching box에 관한 질문 [1] 29571
37 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27474
36 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23246
35 MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] 22536
34 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21128
33 플라즈마 matching 20096
32 scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] 19154
31 Virtual Matchng 16814
30 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9659
29 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 9456
28 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 7699
27 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 6900
26 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6131
25 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5683
24 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4890
23 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3517
22 임피던스 매칭회로 [1] file 2674
21 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2361

Boards


XE Login