Etch 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량

2023.02.09 13:21

텅스텐 조회 수:277

안녕하세요. 반도체 회사 재직중인 설비엔지니어입니다.

 

텅스텐 DEPO 설비 유지보수 중에 RF Plasma를 통한 텅스텐 Cleaning에 문제점이 생겨 조언을 얻고자 질문드립니다.

 

텅스텐 Plasma Clean 조건

2100W Generator Power / C2F6 : O2 (1:1 비율) / 300mTorr Chamber Pressure / 13.56MHZ Matcher

 

Plasma Cleaning 진행 중 깜빡깜빡이는 현상이 확인되며 PM을 하고자 Chamer Open 했을 때

텅스텐이 Etching 되지 않고 Heater 및 Shower Head에 텅스텐이 그대로 남아있는 현상이 발생했습니다.

 

관련하여 챔버에 압력/Clean gas/RF 계통의 Part들을 교체해 보고 있으나 현상이 개선되지 않아

플라즈마 깜빡깜빡이는 현상이 Etching 효율을 떨어뜨리는 걸로 보이는데 문제점이 무엇일지 조언 받고싶습니다.

감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75751
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19438
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56663
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67996
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90218
57 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 395
56 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 394
55 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 391
54 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 390
53 plasma striation 관련 문의 [1] file 389
52 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 375
51 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 373
50 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 371
49 입자에너지에따른 궤도전자와 핵의 에너지loss rate file 363
48 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 355
47 plasma modeling 관련 질문 [1] 354
46 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 352
45 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 345
44 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 329
43 RF 주파수에 따른 차이점 [1] 314
42 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 307
41 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 305
40 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 295
39 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 284
38 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 281
쓰기
태그

Boards

XE Login