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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67552
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145 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 204
144 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 266
143 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 335
142 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 214
141 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 430
140 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 690
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137 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 479
136 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 750
135 plasma striation 관련 문의 [1] file 363
134 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 889
133 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 775
132 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 777
131 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 779
130 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 3126
129 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1157
128 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 499
127 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 693
126 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 890
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