질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:90284 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

이 게시물을
수정 삭제 목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75762
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19448
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56668
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68018
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90284
146 대기압 플라즈마 문의드립니다 [1] 91
145 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 404
144 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 399
143 반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할. [1] 447
142 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 287
141 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 480
140 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 844
139 ICP lower power 와 RF bias [1] 1153
138 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 481
137 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 519
136 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 846
135 plasma striation 관련 문의 [1] file 389
134 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 966
133 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 911
132 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 838
131 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 786
130 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 3703
129 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1247
128 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 527
127 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 731
쓰기
태그

Boards

XE Login