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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71050
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43 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [SiC 식각과 Ring 교체 주기 및 모니터링 방법] [1] 635
42 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 807
41 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 942
40 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 1023
39 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [데이터+플라즈마광학 모델] [1] 796
38 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 1794
37 CF3의 wavelength가 궁금해서 질문드립니다. [핵융합 연구소 자료] [1] 875
36 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3491
35 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [OES, VI 신호 및 가상계측 인자] [2] 2289
34 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [Plasma spectroscopy] [1] 1950
33 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위] [3] 1561
32 Wafer particle 성분 분석 [플라즈마 세정] [1] 2498
31 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1714
30 Plasma 발생영역에 관한 질문 [Plasma sheath의 형성과정] [2] 1577
29 고전압 방전 전기장 내 측정 [전극과 탐침과의 간격] [1] file 1201
28 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [전자전류의 해석] [1] 1526
27 OES 원리에 대해 궁금합니다! [플라즈마 빛의 파장 정보] [1] 27259
26 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [Langmuir probe와 ground] [1] file 1208
25 VI sensor를 활용한 진단 방법 [Monitoring과 target] [2] 3189
24 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [B-dot probe, plasma diagnostics] [1] 1443

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