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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[266]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20152 |
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57159 |
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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387 |
wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상
[1] | 1788 |
386 |
VI sensor를 활용한 진단 방법
[2] | 2867 |
385 |
아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다.
[1] | 997 |
384 |
ICP 후 변색 질문
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383 |
Plasma etcher particle 원인
[1] | 2958 |
382 |
PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성....
[1] | 2309 |
381 |
Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정
| 341 |
380 |
ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할
| 4316 |
379 |
Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미
[1] | 1028 |
378 |
고진공 만드는방법.
[1] | 1006 |
377 |
PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요
[1] | 423 |
376 |
플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성
[2] | 694 |
375 |
플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다.
[1] | 1319 |
374 |
Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다.
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373 |
코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다
[1] | 760 |
372 |
SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유
[1] | 5821 |
371 |
플라즈마 압력에 대하여
[1] | 2727 |
370 |
RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다.
[1] | 3399 |
369 |
활성이온 측정 방법
[1] | 572 |
368 |
rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다.
[1] | 1457 |