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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요?
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Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction]
[1] | 15980 |
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remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [Remote plasma의 Radical]
[1] | 23020 |
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cross section 질문 [Cross section에서의 collision]
[1] | 19898 |
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[Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching]
[1] | 31444 |
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RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [Power와 Gas ionization]
[1] | 18051 |
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ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown]
[2] | 21386 |
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ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model]
[1] | 24948 |
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237 |
[질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering]
[1] | 22848 |
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[질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [Plasma 대면재료와 공정법]
[1] | 19955 |
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상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [Electric field와 breakdown]
[1] | 20417 |
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RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
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[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias]
[3] | 24801 |
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HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
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안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
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대기압 플라즈마
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반도체 관련 질문입니다.
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