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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70344
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96201
704 OES를 통한 공정 개선사례가 있는지 궁금합니다. [플라즈마의 분포와 공정 진단] [1] 757
703 self bias [쉬스와 표면 전위] [1] 634
702 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 1024
701 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 904
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 710
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1494
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 474
697 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1681
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 716
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 250
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1116
693 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 739
692 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 714
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] 29295
690 plasma modeling 관련 질문 [Balance equation] [1] 455
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 887
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 823
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1238
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2414
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1392
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