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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69002
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793 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 126
792 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [2] file 126
791 플라즈마 설비에 대한 질문 129
790 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 145
789 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 145
788 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 148
787 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 150
786 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 152
785 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 153
784 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 154
783 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 158
782 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 166
781 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 173
780 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 175
779 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 176
778 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 176
777 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 176
776 corona model에 대한 질문입니다. [1] 181
775 Microwave & RF Plasma [1] 193
774 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 201

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