안녕하세요 HF PLASMA에 대해 공부하고 있는 직장인입니다.
다름이 아니라 대부분의 논문에서는 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER 증가에 따라 DEPOSITION RATE올라가는데,
실제 HF PLASMA 실험을 해보면, POWF 증가에 따라 DEPOSITION RATE가 내려가는 경향성을 보였습니다. (굴절율은 올라가는 경향성)
혹시 원리에 대해 설명해주실 수 있을까요?
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