Others 플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마

2004.06.19 16:44

관리자 조회 수:14734 추천:262

플라즈마 절단기에서 발생 플라즈마에 의해 발생하는 잡음 발생이 심각하다고 하셨습니다. 이를 제거하기 위해 전원부를 따로 쓰고 있고 차폐막도 설치했음에도 심호잡음이 계속 측정되고 있다고 하셨습니다.
일단 아크 플라즈마에서는 순간적인 아크 전류의 크기가 커서 발생 잡음은 매우 크고 이의 제거는 매우 어렵습니다. 일단 발생하는 잡음 신호의 주파수와 크기를 측정하실 필요가 있습니다. 이를 참고로 가장 염두에 두셔야 할 것은 차폐막과 전원부의 접지상태를 확인하시기 바랍니다. 잡음은 직류가 아진 고주파 교류신호임을 유의하여 접지 상태를 점검하고 차폐막의 형태나 설치 위치도 중요하니 설치 위치등을 다시 고려하시기 바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20177
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
789 플라즈마 설비에 대한 질문 new 1
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 31
787 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 52
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 56
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 61
784 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 68
783 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 76
782 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 80
781 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 84
780 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 100
779 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 105
778 Microwave & RF Plasma [1] 110
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 111
776 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 119
775 skin depth에 대한 이해 [1] 122
774 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 123
773 ICP에서 전자의 가속 [1] 134
772 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 136
771 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 146

Boards


XE Login