Matcher MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까?

2008.10.23 12:22

바람그만필께 조회 수:22381 추천:425

안녕하세요.

삼성전자 반도체 사업장에서 일하는 DIFF PROCESS ENG'R 입니다.

얼마 전에 사내 PLASMA 강의를 듣고 사이트를 알게 되었습니다.

M.N. (Matching Network) 에서 R.F 인가시 Backword bias 가 걸리는 이유가 알고 싶습니다.

SLEF BIAS 하고 연관이 있는 건지요?

SELF BIAS 가 걸린 것이 Backword bias 처럼 보이는 건지 실질적으로 Backword Bias 가 형성되는  건지 알고 싶습니다.

대학에서 재료공학을 전공해서 전자공학에 대해 무지합니다.

교수님의 답변 기다리겠습니다.

감기 조심하시고 건강하세요...

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4954
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16322
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51258
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63781
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83586
679 plasma striation 관련 문의 file 26
678 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 32
677 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 file 41
676 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. [1] 41
675 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 66
674 Polymer Temp Etch [1] 67
673 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 84
672 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 98
671 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 108
670 Plasma Arching [1] 121
669 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 145
668 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 159
667 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 208
666 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 209
665 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 211
664 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 213
663 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 214
662 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 216
661 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 227
660 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 258

Boards


XE Login