Others RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [장비의 접지, 절연 관리]
2009.08.05 12:52
수고가 많으십니다.
저희 회사는 반도체, LCD장비 제작 회사들로 Motion Controller와 Servo ,Step Motor등을 공급하는 회사입니다.
업체 상담중에 문의사항이 있어서 조언을 구하고자 질문을 올려 드립니다.
Sputter 장비의 vacuum정도는 10 -3 torr, 공정온도는 약 100 도 정도입니다. Chamber내부에서 Motion을 구현 하고자 합니다. Chamber내부에 Vacuum용 모터를 사용하고자는데 RF 플라즈마에 의한 노이즈로 Motor 사용에 대한 부분을 우려하고 있습니다. 일반적으로 Chamber 외부로 Motion부분을 빼내어 메탈 벨로우즈를 이용한 방법으로 Motion을 사용한다고 하는데, Vacuum용 Motor를 RF 플라즈마 챔버내에서 사용하는 것이 가능한지 가능하다면 어떤 방법이 있는지 답변 부탁드립니다.
그럼 수고하십시요.
댓글 1
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] | 82729 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 21983 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 58762 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 70391 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 96332 |
| 820 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. [Flow rate] | 146558 |
| 819 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134526 |
| 818 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 [해리와 세정 활성종] | 96781 |
| 817 | Plasma source type [CCP, ICP, TCP] | 79891 |
| 816 | Silent Discharge | 64601 |
| 815 | VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리] [1] | 55367 |
| 814 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] | 48288 |
| 813 | 플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential] | 43814 |
| 812 |
반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다.
 | 41431 |
| 811 | 대기압 플라즈마 | 40783 |
| 810 | Ground에 대하여 | 39739 |
| 809 | RF frequency와 RF power 구분 | 39221 |
| 808 | Self Bias [Self bias와 플라즈마 특성 인자] | 36459 |
| 807 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] | 36176 |
| 806 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process] [2] | 35099 |
| 805 | PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] | 32796 |