Matcher matching box에 관한 질문
2010.05.05 13:54
안녕하세요...
저는 반도체 회사에서 근무하는 사람입니다..
matching box 관련하여 질문이 있어서 글을 올립니다..
현업에서 matching box관련 monitoring하는 parameter중 Load position과 Tune position이란 게 있습니다..
여기 사이트에서 load capacitor와 tune capacitor 얘기가 언급되어 아마 capacitor 관련 용어인 것으로 짐작
되어 지는데 정확한 의미와 역할을 알고 싶습니다..
제 나름대로 확인한 바로는 impedance matching은 L nework와 Pi network가 있는데 위에서 언급한 Load
capacitor와 Tune capacitor는 Pi network에서 사용되는 2개의 capacitor 이름인가요?
답변 부탁 드립니다..
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76538 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91694 |
204 | 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서... [1] | 21324 |
203 | H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] | 24636 |
202 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 26124 |
201 | 몇가지 질문있습니다 | 16577 |
200 | 플라즈마내의 전자 속도 [1] | 21870 |
199 | Plasma Gas의 차이점 [1] | 17955 |
» | matching box에 관한 질문 [1] | 29651 |
197 | TMP에 대해 다시 질문 드립니다. | 18000 |
196 | 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19351 |
195 | [re] 터보분자펌프에 대해서 질문 좀 하고 싶어요! | 19527 |
194 | Dry Etcher 에 대한 교재 [1] | 22534 |
193 | 플라즈마 측정기 [1] | 21329 |
192 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22229 |
191 | Arcing [1] | 28625 |
190 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24762 |
189 | 전자온도에 대하여 궁금한 사항이 있습니다. [1] | 18693 |
188 | 궁금해서요 | 16315 |
187 | PM을 한번 하시죠 | 19724 |
186 | CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마... [1] | 20357 |
185 | Dry Etch장비에서 Vdc와 Etch rate관계 [1] | 22747 |
- 논문: 이상원박사, " 전기적 특성을 고려한 ICP Source 설계",한국진공학회지 제18권 제3호 2009.5, pp. 176~185(10pages) 를 참고하세요.