60 MHz pulse generator와 60 MHz matching box를 구입하여 pulse plasma 특성들 (EEDF, Vp, Te, etc..)을 Langmuir probe를 이용해 측정하려 합니다.  그런데 pulse plasma 측정 방법에 대해 아는 부분이 없습니다.  일반적인 cw plasma 측정과 달리 pulse plasma는 TTL signal이 필요하다고 하는데 TTL signal이 무엇인지 궁금합니다.
그리고 pulse 주기에 따라 이를 측정하기 위한 장치들이 필요하다면 무엇이 필요한지 알고 싶습니다.
time-resolved, time-dependent plasma의 차이도 궁금하구요...

저희 Langmuir probe는 Hiden 社이며 EPison controller를 이용하고 있습니다.

한번에 너무 많은 것을 물어봐서 죄송합니다만, 자세히 알고 싶습니다.

부탁드립니다.

(혹시 관련 manual 자료가 있으면 받을 수 있을까요?)

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91694
223 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. 17190
222 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] 34920
221 질문 있습니다. [1] 18367
» pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련.. [1] 22606
219 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25579
218 플라즈마 진단법에 대하여 [1] 20542
217 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [1] 20257
216 UBM 스퍼터링 장비로... [1] 20885
215 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24827
214 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24528
213 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27204
212 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41190
211 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23371
210 석영이 사용되는 이유? [1] 19999
209 surface wave plasma 에 대해서 [1] 18525
208 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23254
207 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [1] file 21098
206 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [2] 23718
205 질문이 몇가지 있읍니다. [1] 19189
204 저온 플라즈마에서 이온, 전자, 중성자 온도의 비평형이 생기는 이유에 대해서... [1] 21324

Boards


XE Login