>안녕하세요
>제가 ICP 장비에서 플라즈마를 이용한 표면 처리 실험을 하고 있습니다.
>챔버내에 O2와 H2 가스를 혼합하여 플라즈마를 띄웠습니다.
>공정 압력은 10-3 torr 정도 이고 가스유량은 산소 10 : 수소 50 ~ 산소 50 : 수소 50 sccm 입니다.
>궁금한거는 산소와 수소가 만나면 폭발을 할 위험이 있는데요 안전한건지 궁금합니다.
>안전하다면 왜 안전 한건지 이유도 같이 알려 주시면 감사 하겠습니다.
>그리고 H2/O2 비율과 압력대 관련 가용영역 이러한 자료는 어디에서 구할수가 있을가요??
>인터넷으로 검색을 한다면 무슨 제목으로 검색을 해야 할가요? 현재 한참 검색을 해보았는데 아직 관련 자료응 얻지 못하였습니다.
>
>그리고 만일 안전 하다면... 혹시 고진공 수소와 산소 혼합가스로 플라즈마를 생성하는 과정에서 챔버내에 불꽃이나 스파크가 일어 난다면 그때는 폭발의 위험성이 큰거 겠죠??



아 제가 그 글을 읽고 이 글을 작성하였습니다.. 그 글을 읽었는데 아직 잘 모르는 부분이 있어서 이 글을 남겼는데요.. 잘모르는 부분은 위 글에서 처럼

1. H2/O2 비율과 압력대 관련 가용역영 << 이자료를 여기저기 찾아 보았는데 아직 못찾아서요 혹시 찾을수 있을 만한 곳을 아시면 알려 주시면 감사 하겠습니다.
2. 그리고 안전한 이유는 그냥 고진공에서는 H2/O2 혼합하여도 고진공이라 안전한건가요?? 안전한 이유도 알려주시면 감사 하겠습니다.
3. 그리고 마지막으로 챔버내에서 수소/산소 혼합가스로 플라즈마 생성하는 과정에서 불꽃이나 스파크가 일어난다면 그때의 폭발 위험성은 어떻게 되는지 이렇게가 가장 궁금한 점입니다.

알고 계신 다면 알려주시면 정말 감사 하겠습니다~ 2010-11-29
12:11:27



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20181
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92276
789 플라즈마 설비에 대한 질문 new 8
788 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 33
787 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 53
786 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 56
785 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 62
784 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 68
783 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 77
782 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 80
781 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 85
780 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 100
779 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 108
778 Microwave & RF Plasma [1] 111
777 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 111
776 skin depth에 대한 이해 [1] 123
775 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [1] 124
774 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 124
773 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [1] 136
772 ICP에서 전자의 가속 [1] 136
771 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 146
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 146

Boards


XE Login