Etch poly식각을 위한 조언 부탁드립니다.

2016.10.21 09:19

지오반니 조회 수:1407

아래 그림과 같이 SiN위에 poly 식각을 하려 합니다.

poly 주변에는 산화막이 형성되어있는 상태입니다.

바닥 poly의 damage는 줄이면서 상단 poly만 제거하고 싶은데

효과적인 방법이 있을까요? 조언 부탁드립니다.


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76649
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20146
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57146
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68668
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92120
327 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6234
326 핵융합 질문 [1] 565
325 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 634
324 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1957
323 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7646
322 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1268
» poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1407
320 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5245
319 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5976
318 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8093
317 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6062
316 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2486
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3883
314 Ar plasma power/time [1] 1435
313 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3993
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 17411
311 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1386
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7208
309 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1938
308 N2, Ar Plasma Treatment 질문입니다. [1] 11375
쓰기
태그

Boards

XE Login