안녕하세요. 

저희 장비에서 RF는 상부와 하부로 나뉘어져 있고 하부 쪽에서 Vpp가 측정됩니다. 보통 이것과 Ion energy를 비례하게 해석하던데, 어떻게 연결 지어야 하는지 궁금합니다.

장비 설명에서 Vpp는 RF Matcher의 Position으로부터 도출되는 것이라고 설명되있었습니다.

즉 하부에서 RF reflect가 존재해야 Vpp가 계산된다는 것인데, 이것으로 어떻게 Ion Energy를 예상하는지...

일반적으로 입사되는 Ion이나 전자의 전하 움직임을 Reflect로 해석하는 것인가요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
363 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1861
362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 792
361 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1133
360 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1268
359 DC bias (Self bias) [3] 11218
358 ICP와 CCP의 차이 [3] 12435
357 새집 증후군 없애는 플러스미 - 플라즈마에 대해서 [1] 782
356 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1829
» Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 9510
354 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2617
353 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1944
352 Impedence 위상관련 문의.. [1] 1456
351 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 574
350 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2604
349 RF frequency와 RF power 구분 39046
348 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2275
347 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2720
346 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 676
345 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3491
344 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6360

Boards


XE Login