안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69203
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375 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 1348
374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 484
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 801
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 6091
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370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 3501
369 활성이온 측정 방법 [1] 593
368 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1503
» Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2320
366 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1824
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2395
364 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 2038
363 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1910
362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 837
361 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 1162
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