Others ICP 후 변색 질문
2018.01.23 19:11
안녕하십니까.
현재 반도체 회사에서 근무하고 있습니다.
ICP 공정 중 일어나는 Sapphire wafer (Al2O3) 변색 관련 질문 드립니다.
BCl3 gas를 이용한 ICP 진행 중 간간히 wafer가 옅은 노란색을 띄는 황변이 발생하고 있고.
황변 발생 wafer는 재열처리로 황변을 제거 하고 있습니다. (가끔 황변이 제거 안되는 경우도 있습니다.)
이와 관련.
1. Oxygen의 숫자 부족
2. Al3 + vacancy 과도의 이유로 추정하고 있습니다.
Ingot 자체의 물성(?)이 원인이라고 파악하고 있는데.
혹시, ICP 진행 중 어떠한 화학반응에 의해 황변이 발생할 가능성이 있는지요.
어떠한 내용이라도 좋습니다.
위 황변 내용과 관련하여 다른 의견이나 지식을 얻고 싶습니다.
ICP 진행 중 wafer 황변 발생의 원인과 그에 따른 해결 방안 혹은 점검 내용이 있다면 알려주시길 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76682 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57153 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68674 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92189 |
783 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. | 144416 |
782 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134441 |
781 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 | 95595 |
780 | Plasma source type | 79645 |
779 | Silent Discharge | 64557 |
778 | VPP, VDC 어떤 FACTOR 인지 알고 싶습니다. [1] | 54874 |
777 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] | 47801 |
776 | 플라즈마내에서의 아킹 | 43691 |
775 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41219 |
774 | 대기압 플라즈마 | 40703 |
773 | Ground에 대하여 | 39383 |
772 | RF frequency와 RF power 구분 | 39060 |
771 | Self Bias | 36380 |
770 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) | 35890 |
769 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [2] | 34942 |
768 | PEALD관련 질문 [1] | 32611 |