Plasma in general (PAP)plasma absorption probe관련 질문
2018.08.06 10:14
안녕하십니까? 반도체 현업 종사자 입니다.
(PAP)plasma absorption probe관련하여, 측정을 진행하고 있습니다. 플라즈마 밀도 측정입니다.
일단 측정을 하기 위해서 펄스제너레터, 펄스 트리거, 오실로스코프등을 준비하여 측정을 하고 있는데요.
원리가 주파수에 따라서 전자밀도를 측정하는것으로 추정하고 있습니다.
일반검색자료애서 (PAP)plasma absorption probe관련 자료가 잘 검색이 되지 않아서요....
교수님, 외람되지만, (PAP)plasma absorption probe관련 원리와 추천해주실 논문 있으시면 부탁드립니다.
그리고, 이 측정 방법도 간접적 측정이 아닌 직접적 측정방식으로 알고 있습니다. 랑뮤어 프로브는 플라즈마 간섭현상이 있어서 정확도 떨어지는 것으로 알고 있느데....제가 생각하기로는 분광기를 통한 전자밀도 측정이 정확하다고 생각합니다. 굳이 (PAP)plasma absorption probe를 사용하는 이유가 있는지요?? 다른 방법대비 장점이 있는지가 궁금합니다.
감사합니다. 좋은하루 보내십시오.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] | 73073 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17639 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 55521 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 65721 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 86086 |
707 | E-field plasma simulation correlating with film growth profile | 10 |
706 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] | 45 |
705 | OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] | 53 |
704 | 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] | 67 |
703 | Self bias 내용 질문입니다. [1] | 88 |
702 | 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] | 104 |
701 | 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] | 120 |
700 | 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] | 120 |
699 | self bias [1] | 122 |
698 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 135 |
697 |
구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다.
[1] ![]() | 181 |
696 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 209 |
695 | 기판표면 번개모양 불량발생 [1] | 211 |
694 | CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] | 222 |
693 | plasma modeling 관련 질문 [1] | 238 |
692 | 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] | 247 |
691 | ESC DC 전극 Damping 저항 | 253 |
690 |
plasma striation 관련 문의
[1] ![]() | 266 |
689 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] ![]() | 268 |
688 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 272 |