안녕하세요. 반도체 회산 근무중인 사람인데요.

궁금증이 있어 몇가지 질문 드립니다.

1.     Descum 기본 원리

*. RF + O2 를 이용한 Plasma 발생 및 Descum 진행 원리

*. RF + MW + O2 를 이용한 Plasma 발생 및 Descum 진행 원리

2.     Descum 시 발생하는 광원에 대하여..

*. Descum 시 발생하는 광원의 종류

è  Plasma 발생 파장에 따른 Graph화된 자료가 있으면 좀 더 쉽게 이해 될 것 같습니다.

è  해당 광원이 UV에 해당하는 광원 인가요?

3.     RF Generator

*. RF Generator의 기본적인 역할

*. RF Generator가 파장의 변화를 줄 수 있는지?(공정 조건은 동일하다는 가정하에)

질문이 많아 죄송합니다.

 답변 부탁 드립니다.

감사합니다.

 

 

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