안녕하세요. 투명전극을 주제로 실험 및 공부를 하고 있는 학생입니다.

다름이 아니라 저희 연구실에서 sputter장비를 set up하고 있는데 해결을 못하고 있는 문제가 있어서 조언을 요청드립니다.

RF magnetron sputtering 장비이며 4in target 4ea 가 장착되어있는 chamber인데, RF파워 인가시, 초기에 plasma가 발생하였다가 reflect가 올라가면서 불안정적으로 변하면서 완전히 꺼지는 현상이 있습니다. chamber open후 target상태를 보면 target마다 다르지만 erosion track이 비 정상적으로 좁고 깊게 파이거나 damage를 입은것을 확인할 수 있습니다.

초기엔 target gun 의 magnet flux를 의심하였는데 타 회사의 gun에서도 비슷한 경향이 나타나고 있습니다.

1.혹시 matcher에서 mismatch가 발생하면서 이러한 현상이 발생할 수 있나요?(있다면 왜 plasma on초기부터 발생하지 않고 나중에 발생하는지 이유를 알 수 있을까요?

2.혹시 제가 고려하지 못한 다른 제어 요소가 있는지 여쭤보고 싶습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5591
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16868
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51345
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64201
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84176
691 플라즈마 진단 OES 관련 질문 21
690 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 34
689 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 43
688 ESC DC 전극 Damping 저항 64
687 RF Sputtering Target Issue [1] file 112
686 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 116
685 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 117
684 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 118
683 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 124
682 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 134
681 RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] file 144
680 Polymer Temp Etch [1] 146
679 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 149
678 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 151
677 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 165
676 plasma striation 관련 문의 [1] file 165
675 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] 186
674 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 191
673 RPSC를 이용한 SiO, SiN Etch 관련 문의드립니다. [1] 192
672 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 202

Boards


XE Login