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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68690
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92261
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 20
27 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 81
26 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 157
25 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 674
24 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 574
23 plasma striation 관련 문의 [1] file 470
22 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 995
21 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4911
20 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 591
19 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3527
18 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 862
17 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2269
16 anode sheath 질문드립니다. [1] 982
15 라디컬의 재결합 방지 [1] 788
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1447
13 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 971
12 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16653
11 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1263
10 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1056
9 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19776
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