다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20077
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91696
503 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1879
502 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11079
501 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2258
500 공정플라즈마 [1] 1136
499 임피던스 매칭회로 [1] file 2789
498 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 543
497 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1667
496 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1476
495 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3317
494 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1146
493 질문있습니다. [1] 2545
492 chamber impedance [1] 2003
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3189
490 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2092
489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5021
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1363
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 725
» Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6251
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1618
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1159

Boards


XE Login