Remote Plasma remote plasma 데미지 질문

2020.04.18 19:32

룰루랄라 조회 수:7679

안녕하세요 


반도체 공부하고 있는 학생입니다


반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다

remote plasma  경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,

제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다

그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?


자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2291
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12771
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49612
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61085
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 78327
539 플라즈마 살균 방식 [2] 10511
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 670
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 830
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 199
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 604
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 1309
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 5368
532 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 668
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 1646
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1178
529 질문있습니다 교수님 [1] 13128
528 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 872
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 219
» remote plasma 데미지 질문 [1] 7679
525 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1070
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 526
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 2415
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 639
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 926
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 1584

Boards


XE Login