안녕하세요 교수님

 

제목에서 말씀드린 것 처럼 Ion 입사각을 확인하고 싶은데 문제가 있습니다. Etch 설비라면 Profile을 통해 알 수 있겠으나, 제가 맡고 있는 설비는 CVD 설비 입니다. ICP TYPE에서 DEP 과 Etch 가 동시에 일어나 Gapfill 목적으로 사용되는 설비입니다. 그렇다보니 Etch 처럼 Profile에서 Ion 의 입사각도가 드러나지 않는데, 어떻게하면 확인해볼 수 있을지 조언 부탁드립니다. 확인하는 목적은 Outer 영역에 Ion flux 가 집중되는 것으로 보여 확인하기 위함입니다. 늘 감사드립니다. 

 

 

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