개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:60007 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [324] 90913
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 23330
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 60007
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 71827
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 100902
194 플라즈마 식각 커스핑 식각량 176
193 Wafer 영역별 E/R 차이에 대한 질문 [Gas flow system vs E/R] [1] 228
192 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [삼각함수의 위상각] [1] 242
191 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 262
190 III-V 반도체 에칭 공정 문의 [1] 268
189 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [Base pressure 이해] [1] 284
188 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 315
187 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [Sheath 크기 및 전위 분포] [1] 330
186 AP plasma 공정 관련 문의 [OES 활용 장비 플라즈마 데이터 분석] [1] 343
185 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 354
184 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 356
183 ICP 장비 TCP Reflect 발생 간 조언 부탁드립니다. [1] 359
182 HF PLASMA DEPOSITION 시 POWER에 따른 DEP RATE 변화 [장비 플라즈마, Rate constant] [1] 362
181 FTIR분석을 이용한 SiO2성막 해석 381
180 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [박막] [1] 391
179 Sputtering을 이용한 film deposition [진공 및 오염입자의 최소화] [1] 411
178 gas에 따른 deposition rate 및 저항질문 있습니다 [박막 문제] [1] 461
177 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [Ar, O2 플라즈마 생성 특성] [1] 474
176 Cu migration 방지를 위한 스터디 [전자재료] [1] 475
175 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 507

Boards


XE Login