안녕하세요.

 

Plasma 관련 공부를 처음 시작하게된 엔지니어입니다.

 

교수님의 설명을 통해 이곳에서 많은 공부를 하고 있는 도중 의문점이 있어 질문 드립니다.

 

Source Gas의 Uniformity를 관련하여 공부하고 있는데요

 

Plasma도 처음 시작하게 되었는데 기체의 유동도 많은 관련이 있어 공부를 시작하려 합니다.

 

진공 상태에서 Gas가 분출되어 나오고, showerhead를 통해 Process 공간으로 분사될 때 Gas의 Density를 대략적으로 계산할 수 있는 식이 있을까요??

 

예를들면 직경 10Φ의 원형에서 Gas가 분출되어 나오고 Showerhead와의 거리는 A, Showerhead 면적이 100mm x 50mm 일때 Showerhead를 통과하는 기체의 Density를 구할 수 있을까요??

 

정확하지 않더라도 간단하게 유추정도만 해볼 수 있는 식이 있다면 지도 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2296
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12779
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49613
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61086
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 78359
143 etch defect 관련 질문드립니다 67
142 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 165
141 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 167
140 doping type에 따른 ER 차이 [1] 154
139 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 146
138 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 238
137 식각 가스 사용 챔버의 잔류 flourine cleaning 혹은 conditioning 방법 질문 [1] 446
136 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3275
» Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] 389
134 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 271
133 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 350
132 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 676
131 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 904
130 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 279
129 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 222
128 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 369
127 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 594
126 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 351
125 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 333
124 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 505

Boards


XE Login