Remote Plasma remote plasma 데미지 질문

2020.04.18 19:32

룰루랄라 조회 수:14452

안녕하세요 


반도체 공부하고 있는 학생입니다


반도체 관련 논문을 읽다 모르는 것이 있어 질문드립니다

remote plasma  경우 소스와 타겟 물질의 거리가 멀어 direct plasma 보다 플라즈마 데미지가 낮다고 하는데,

제가 알기로는 거리가 멀면 mean free path가 길어지고 플라즈마가 가속되어 에너지가 더 큰 것으로 알고 있습니다

그럼 충돌에너지가 커서 데미지가 더 커지는거 아닌가요..?


자세한 답변 부탁드립니다 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76692
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68680
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
787 Non-maxwellian 전자 분포의 원인 138
786 skin depth에 대한 이해 [1] 105
785 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 65
784 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 70
783 ICP에서의 Self bias 효과 [1] 97
782 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 88
781 sputtering 을 이용한 film depostion [1] 102
780 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 54
779 플라즈마 밀도와 라디칼 [1] 190
778 Microwave & RF Plasma [1] 105
777 플라즈마 식각 시 notching 현상 관련 [1] 166
776 ICP에서 전자의 가속 [1] 126
775 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 50
774 Edge ring의 역할 및 원리 질문 [1] 193
773 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 61
772 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 97
771 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 150
770 파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다 [2] 140
769 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 67
768 Etch Plasma 관련 문의 건.. [1] 224

Boards


XE Login