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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69122
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816 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 28
815 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [1] 16
814 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 23
813 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [1] 22
812 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [1] 59
811 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [1] 1323
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807 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [1] 117
806 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [1] 54
805 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 121
804 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 133
803 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] 74
802 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 159
801 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 167
800 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 118
799 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 82
798 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 136
797 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 180

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