Plasma Source Plasma Dechuck Process가 궁금합니다.

2020.02.02 02:25

굴음히 조회 수:17670

안녕하세요 저는 반도체관련 업체에서 일하고 있는 최철운입니다.

ESC쪽을 공부하면서 Plasma Dechuck process가 궁금해졌는데요.

J-R TYPE ESC 같은 경우 일반적으로  ESC쪽의 Voltage를 끈 후 wafer의 잔여 전하를 Plasma를 이용해 dechuck을 한다고하는데 이는 어떤 process로 행해지는 지 궁금합니다. 체 추측으로는 plasma들이 wafer를 때리면서 중성화를 시켜 dechuck을 시킨다고 생각이 되는데 맞는지요?


또한 궁금한게 Columb Force방식의 ESC는 voltage를 끌시 잔여 전하가 남지 않기때문에 바로 Dechuck이 되며 plasma를 킬필요가 없다고하는데 Plasma dechuck을 사용하여 particle 개선 효과가 있는지 궁금합니다.

 Plasma Dechuck을 사용할시 챔버 내의  잔류 가스들을 가두고 wafer표면에 떨어지게 막으면서 pump쪽으로 흐르게하는 것인가요? 어떤 원리로 particle 제거 효과가 있는지... 궁금합니다.


감사합니다~

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68695
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
607 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 319
606 CVD 공정에서의 self bias [1] 3095
605 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3323
604 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1116
603 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1860
602 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1414
601 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1078
600 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 972
599 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1748
598 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2740
597 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1846
596 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3292
595 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 225
594 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2342
593 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1351
592 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2320
591 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3202
590 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 855
589 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1983
쓰기
태그

Boards

XE Login