플라즈마 기본 사양 문의

2018.02.27 10:50

포포쿱 조회 수:615

안녕하세요

플라즈마 기기에 급 관심을 갖게된 대학생입니다.


기본적으로 몇가지 문의 드리고 싶은데 아시는 분들은 말씀 부탁드립니다.


1. 저온 플라즈마의 측정 단위?

빛은 에너지밀도, 파장대로 어떤 기기의 출력 스펙을 한정하듯 저온 플라즈마 스펙도 전압, 주파수, 파장, 에너지밀도 등으로

쓸 수 있는건가요?

그렇다면 어떤 측정 단위를 쓰나요? V ? W ? W/m2 ? nm ?


2. 고전압

3KV 이상의 고전압을 걸어야 플라즈마 형태로 기체를 이온화? 시킬 수 있는것으로 알고 있는데

혹시 이 고전압이 불량이 나거나 이상이 생겼을때 위험하진 않나요



3. 인체 안전성?

플라즈마를 인체에 쐬어 주었을때 나타나는 부작용? 등이 있을까요?

반응성이 크고 에너지가 큰 상태인 플라즈마가 어떤 작용을 할거같은데..



4. 플라즈마 측정 방법


플라즈마가 나오는지 측정하려면 분광기?등 어떤 장비를 사용해야 하나요?

측정해주는 기관이나 (공공기관) 실험실이 있으면 추천 부탁드립니다.

1번과 같은 질문인데  측정하면 뭘 어떻게 어떤 스펙을 측정하는지도 .....궁금합니다





감사합니다.











번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68690
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92264
607 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 319
606 CVD 공정에서의 self bias [1] 3093
605 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3323
604 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1114
603 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1860
602 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1411
601 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1075
600 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 971
599 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1746
598 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2737
597 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1845
596 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3288
595 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 225
594 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 2342
593 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 1347
592 안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다. [1] 2317
591 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 3200
590 안녕하세요 플라즈마의 원초적인 개념에서 궁금한 점이 생겨서 질문드립니다. [1] 853
589 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1983

Boards


XE Login