안녕하세요, 한국기술교육대학교에서 석사과정중인 최인규입니다.


현재, Plasma 상태에서의 분자와 기판의 반응을 시뮬레이션을 통해서 모사해 보려고 하고 있습니다.


다만 현재 N 플라즈마 상태에서, N이 어떠한 형태로 존재하는지 알지 못하고 있습니다. 


H 플라즈마의 경우에는 I. Mendezet al , J. Phys. Chem . Rev . A 110 2006 ) 6060 6 논문을 참고하여, 


H 원자 형태로 가장 많이 존재하며 그 이후로 H3+, H+, H2+ 순으로 구성되어있다고 하는데,


N 플라즈마의 경우 대부분이 N+ / N2+ 의 비율로만 보여주고 있어 어려움이 있습니다.


혹 N이 이온이 아닌 원자 형태로 존재하는지, 존재를 한다면 N+, N2+ 대비 얼마나 존재 할지 궁금하여 질문드립니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
603 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 850
602 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 856
601 문의 드립니다. [1] 858
600 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 860
599 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 866
598 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 878
597 Plasma Generator 관련해서요. [1] 905
596 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 911
595 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 925
594 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 934
593 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 940
592 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 948
591 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 949
590 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 951
589 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 951
588 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 952
587 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 959
586 anode sheath 질문드립니다. [1] 961
585 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 965
584 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 966

Boards


XE Login