교수님 안녕하세요.

 


1.
http://pal.snu.ac.kr/index.php?mid=board_qna_new&category=67497&document_srl=78754
(Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate)

 

글 두번째 문단에 '다음으로 플라즈마 밀도를 제어하기 위해서 edge ring 혹은 confinement ring 등을 써서 플라즈마 확산을 줄이고 있습니다.'
부분에 대해 질문드립니다.
→ edge ring 혹은 confinement ring을 통해 "플라즈마 확산을 줄여" 플라즈마 균일하게 밀도를 제어한다는 말씀이신데,

 

두번째 문단 '가운데 밀도는 비교적 높고 가장자리로 가면서 밀도는 떨어지게 됩니다.'
→ 가장자리로 갈수록 플라즈마 밀도가 떨어지는데,
"플라즈마 확산을 늘려야" 플라즈마 밀도를 균일하게 제어할 수 있는 것이라 생각해 이에 대해 질문드리고 싶습니다.


2. Edge Ring이 플라즈마 밀도의 균일성을 높이는 원리를 설명해주실 수 있을까요?

 

 

항상 이 곳에서 많은 도움을 받고, 공부하고 있습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
603 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 850
602 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 856
601 문의 드립니다. [1] 858
600 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 860
599 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 866
598 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 878
597 Plasma Generator 관련해서요. [1] 905
596 플라즈마 구에서 나타나는 현상이 궁금합니다. [1] 911
595 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 925
594 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 934
593 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 940
592 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 948
591 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 949
590 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 951
589 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 951
588 O2 Plasma 에칭 실험이요 [1] 952
587 RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] 959
586 anode sheath 질문드립니다. [1] 961
585 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 967
584 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 967

Boards


XE Login