ICP Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여
2018.12.21 07:56
안녕하세요, dusty 플라즈마를 활용해서 나노소재를 만드는 연구를 하는 한 학생입니다.
플라즈마 electron density 를 증가하고자 CCP 에서 ICP 로 바꿔서 실험을 진행하고 있는데요,
Ar gas 만 흘럿을때는 매우 아름다운 ICP 효과를 얻을 수 있는데,
O2 gas 를 넣는 순간 ICP 효과가 사라집니다.
튜브 사이즈는 직경 2인치이고, power 는 200 W 정도 인가하였는데
매칭박스의 매칭이 잘 되지는 않습니다.
주로 CCP 만 사용하다가 ICP 를 사용하게 되어 매칭박스에 관해 지식이 짧은데,
혹시 ICP 를 사용할때는 이 모드에 맞게 매칭박스를 바꾸어야 하는지요?
감사합니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20183 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92277 |
588 | 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] | 1984 |
587 | RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] | 3768 |
586 | 플라즈마 챔버 [2] | 1242 |
585 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1050 |
584 | 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] | 3617 |
583 | 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] | 780 |
582 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1669 |
581 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1323 |
580 | 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] | 868 |
579 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1113 |
578 | 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] | 403 |
577 | 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] | 28521 |
576 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1354 |
575 | Load position 관련 질문 드립니다. [1] | 2435 |
574 | Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] | 454 |
573 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1104 |
572 | 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] | 6418 |
571 | ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] | 806 |
570 | Interlock 화면.mag overtemp의 의미 | 585 |
ICP는 antenna를 통해 RF power가 전달되고, CCP는 마주보고 있는 electrode를 통해서 전달되지요. 전기적으로 보면 antenna는 inductor로 가정이 될 수 있고, 평판형 전극은 capacitor로 가정할 수가 있습니다. 따라서 matcher는 inductor의 load impedance 혹은 capacitor의 load impedance 차이가 됩니다. 두 임피던스의 특성은 RF에 대해서 반비례하는 성질을 갖고 있으니, matcher가 정합하는 기능이 차이가 생길 수 밖에 없겠지요. 대부분 matcher의 회로를 변경해서 사용하며, 상세한 내용은 Lieberman의 principles of plasma discharges and material processing 의 내용을 참고하시면 되겠습니다. 일부 정합기에 대한 설명은 본 계시판에도 수록이 되어 있으니 참고하세요.