안녕하십니까 교수님. 플라즈마를 공부하면서 생긴 궁금증으로 인해 질문드립니다.
아래 첨부된 그림파일과 같은 회로에서 임피던스 매칭 회로의 구동원리는 어떻게 되는지요?
임피던스 매처에서 만약 X<0인 capacitive 인 경우 , X>0인 inductive인 경우 각각 임피던스 매칭회로의 변화는 어떻게 되는지 궁금합니다.
항상 감사드립니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20188 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
| 588 | 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] | 1984 |
| 587 | RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] | 3770 |
| 586 | 플라즈마 챔버 [2] | 1242 |
| 585 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1050 |
| 584 | 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] | 3617 |
| 583 | 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] | 780 |
| 582 | 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] | 1670 |
| 581 | ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] | 1323 |
| 580 | 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] | 868 |
| 579 | RF 반사파와 이물과의 관계 [1] | 1113 |
| 578 | 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] | 403 |
| 577 | 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] | 28521 |
| 576 | Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] | 1354 |
| 575 | Load position 관련 질문 드립니다. [1] | 2436 |
| 574 | Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] | 454 |
| 573 | 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] | 1104 |
| 572 | 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] | 6418 |
| 571 | ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] | 806 |
| 570 | Interlock 화면.mag overtemp의 의미 | 585 |
RF 전원을 안테나 (ICP) 혹은 전극 (CCP/RF bias)에 인가시키기 위해서는 reactance term을 소거하여야 전원으로 부터 전달되는 전자기파를 온전히 안테나 및 전극으로 보낼 수가 있고, 이를 impedance matching이라 합니다. 소거 방법은 reactance의 위상차를 이용하는 방법으로 inductive reactance 와 capative reactace 간의 180도 위상차를 활용하면 상호 직렬연결시키면 소거를 시킬 수가 있겠습니다. 혹은 같은 reactance 로는 직병렬회로 연결을 통해서 소거가 가능합니다. 해당 내용은 전기공학의 회로 이론을 보면 참고가 수월할 것이며, 본 게시판에서 impedance matching 에 대한 설명을 참고하시면 도움이 될 것 같습니다.