안녕하세요. 카이스트에서 석사 1년차로 있는 대학원생입니다.

 

Single probe로 electron energy probability distribution을 구할 때, low energy electron은 bulk plasma에서 평형 상태에 도달한 전자들을 지칭하고 high energy electron은 cathode에서 방출되고 probe sheath를 통해 bulk plasma로 가속되는 전자들을 지칭하는 것으로 알고 있습니다.

 

이 두 그룹의 전자들을 구분할 수 있는 식이 따로 있는지 궁금합니다. 실험을 통해 얻은 EEPF에서 몇 eV부터 몇 eV까지는 low energy electrons이고 몇 eV부터 몇 eV까지는 high electrons이다 라는 형태의 답을 얻고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77549
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20622
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57571
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69061
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93232
616 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 761
615 플라즈마를 통한 정전기 제거관련. [1] 759
614 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1496
613 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 2080
612 라디컬의 재결합 방지 [1] 846
611 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2212
610 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1561
609 전자 온도 구하기 [1] file 1213
608 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 332
607 CVD 공정에서의 self bias [1] 3295
606 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3355
605 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1205
604 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1881
603 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1486
602 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1141
601 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1038
600 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1851
599 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2988
598 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1983
597 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3532

Boards


XE Login