안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.

항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.

 

다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.

 

저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,

이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.

 

같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데 

이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [298] 77493
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20580
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57514
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69029
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93146
613 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1496
612 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 2079
611 라디컬의 재결합 방지 [1] 845
610 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2208
609 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1559
608 전자 온도 구하기 [1] file 1213
607 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 332
606 CVD 공정에서의 self bias [1] 3289
605 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 3355
» 잔류시간 Residence Time에 대해 [1] 1203
603 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1881
602 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1486
601 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1141
600 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1037
599 Edge ring과 플라즈마 밀도 균일성 [1] 1850
598 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 2985
597 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1974
596 RF Power와 균일도 연관성 질문드립니다. [2] 3530
595 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 234

Boards


XE Login