안녕하세요.

RF 저온 플라즈마 발생장비를 사용하고 있는데, 수중 속에서 오존을 발생시키려면 어떠한 조건이 필요한지 궁금하여 질문드립니다.

해당 RF 저온 플라즈마 발생장비는 방전관 내부와 방전관 표면의 유리에서 방전이 일어나게 되고, 해당 Tip을 다시 표면이나

인체 피부에 접속 시, 유리방전관과 인체 피부 사이에서 방전현상이 일어나게 되어 방전관과 피부 사이를 지나는 공기 속의 산소가

전기적 에너지와 충돌하고, 결국 O2 에서 O+O로 분리되며, 분리된 O가 분리되지 않은 O2와 재결합하는 과정(O2 + O -> O3)에서

오존이 발생하게 되는 것으로 알고 있습니다.


궁금한 점은 해당 플라즈마 방전 Tip을 20ml 정도의 수중 속에 넣어서 전압을 인가 하였을 때, 표면에서 일어나는 플라즈마 에너지로

수중 내 이온들을 분리시켜 오존을 발생시킬 수 있는지 궁금합니다. (물은 D.W를 사용하였습니다).

오존은 기체다 보니 해당 장치로 플라즈마를 인가하면 수중 속 분자(H2O) 들이 이온화 되면서 재결합하는 과정에서

일부 오존들이 만들어지고, 기포가 조금이라도 발생할 줄 알았는데, 아무런 변화가 없었습니다.

혹시 수중 속 이온들을 이온화 시키기 위해 필요한 플라즈마 에너지가 부족한 것일까요?


자료들을 찾아보니, 과산화수소(H2O2), 에어버블을 이용해서 저온 플라즈마 장치를 수중 속에 넣게 되면 오존율을 높일 수 있다고

해서, 과산화수소(35%) 원액속에도 담궈봤는데 아무런 변화가 없었습니다. 그래서 해당 플라즈마 장치가 이온화를 시킬 수 있는

충분한 에너지 또는 조건성립이 부족했던건 아닌가 생각이 드는데, 혼자 고민하다가 여기 질문방을 찾게 되었고, 의견을 받고 싶어

글을 올리게 되었습니다.


바쁘시겠지만, 답변 부탁드리겠습니다. 혹시 설명이 부족하면 더 추가하도록 하겠습니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
582 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1662
581 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다!! [1] 1289
580 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 860
579 RF 반사파와 이물과의 관계 [1] 1099
578 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 399
577 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [1] 28409
576 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [1] 1332
575 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 2417
574 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 450
573 엘립소미터 측정관련해서 질문이 있습니다. [1] 1079
572 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6416
571 ECR ion source에서 plasma가 켜지면 RF reflect가 심해집니다. [2] 792
570 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 578
569 플라즈마를 이용한 오존 발생기 개발 문의 件 [1] 951
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1450
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1146
566 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5462
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 832
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1683

Boards


XE Login